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- 제목
- Cl2/Ar 및 C2F6/Ar discharge를 이용한 NiFe, CoFe 및 IrMn 자성 박막의 유도 결합 플라즈마 반응성 이온 식각
- 제목 (타언어)
- Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching of NiFe, CoFe, and IrMn Magnetic Thin Films in Cl2/Ar and C2F6/Ar discharges
- 저자
- 정지원; 정영진; 송영수; 신별
- 발행일
- 2004-08
- 유형
- Y
- 저널명
- 공업화학
- 권
- 15
- 호
- 5
- 페이지
- 503 ~ 507