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Application of the JMAK model for crystallization behavior in ferroelectric ALD-(Hf,Zr)O2 thin films
- 김시준;
- 김재훈;
- 송민섭;
- 강종묵;
- 이승빈
- 제목
- Application of the JMAK model for crystallization behavior in ferroelectric ALD-(Hf,Zr)O2 thin films
- 저자
- 김시준; 김재훈; 송민섭; 강종묵; 이승빈
- 발행일
- 2025-02-12
- 학회명
- 한국반도체학술대회 (The Korean Conference on Semiconductors (KCS))
- 개최국가
- 대한민국
- 학회 개최일
- 2025-02-12 ~ 2025-02-14