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A study on the equivalent oxide thickness of Hf1-XZrXO2 thin films for next-generation DRAM applications
- 김시준;
- 이승빈;
- 민현홍;
- 최예서;
- 박혜련;
- 외 3명
- 제목
- A study on the equivalent oxide thickness of Hf1-XZrXO2 thin films for next-generation DRAM applications
- 저자
- 김시준; 이승빈; 민현홍; 최예서; 박혜련; 박성빈; 강종묵; 정준탁
- 발행일
- 2024-01-24
- 학회명
- 한국반도체학술대회 (The Korean Conference on Semiconductors (KCS))
- 개최국가
- 대한민국
- 학회 개최일
- 2024-01-24 ~ 2024-01-26