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Comparative study on ferroelectric properties of (Hf,Zr)O2 thin films using H2O2 and O3 as ALD oxidants
- 김시준;
- 최예서;
- 박혜련;
- 박성빈;
- 강종묵;
- 외 4명
- 제목
- Comparative study on ferroelectric properties of (Hf,Zr)O2 thin films using H2O2 and O3 as ALD oxidants
- 저자
- 김시준; 최예서; 박혜련; 박성빈; 강종묵; 정준탁; Yong Chan Jung; Jin-Hyun Kim; Jiyoung Kim
- 발행일
- 2024-01-24
- 학회명
- 한국반도체학술대회 (The Korean Conference on Semiconductors (KCS))
- 개최국가
- 대한민국
- 학회 개최일
- 2024-01-24 ~ 2024-01-26