RF 마그네트론 스퍼터링 방법으로 제작된 질화탄소 박막의 광학적 특성

초록

본 연구에서는 RF 마그네트론 스퍼터링 방법으로 순수 질소가스 분위기에서 제작된 질화탄소 박막에 대해 증착온도가 광학적 특성, 화학적 결합 특성 및 마이크로 표면구조 특성에 미치는 효과를 연구했다. 150 mtorr 의 N${}_2$ 압력 하에서 제작된 질화탄소 박막은 증착온도가 40 ${}^{\circ }$C 에서 350 ${}^{\circ }$C 범위로 증가될 때 증착율, N/C 조성비 및 광학적 E${}_g$ 값 모두 감소했다. XPS 스펙트럼 분석결과는 증착온도가 증가될 경우 sp${}^3$C-N 결합성분이 증가되는 특성을 보여 주었다. 증착시 기판의 온도가 높을 수록 기판을 가열하지 않고 제작된 시편에 비해 표면구조가 상대적으로 조밀해지고 균질해짐을 알 수 있었다.

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