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A study on low-temperature (<400℃) process of ferroelectric (Hf,Zr)O2 thin films using H2O2 as oxygen source
- 김시준;
- 김재훈;
- 박성빈;
- 강종묵;
- 이승빈;
- 외 2명
- 제목
- A study on low-temperature (<400℃) process of ferroelectric (Hf,Zr)O2 thin films using H2O2 as oxygen source
- 저자
- 김시준; 김재훈; 박성빈; 강종묵; 이승빈; Yong Chan Jung; Jiyoung Kim
- 발행일
- 2024-06-25
- 학회명
- 2024 한국전기전자재료학회 하계학술대회
- 개최국가
- 대한민국
- 학회 개최일
- 2024-06-25 ~ 2024-06-25