이원규

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2009

Conference

반도체 후공정 세정액 특성연구

이원규 ;
손향호 ;
고천광 ;
원동수 ;
김태경

2009-10-15
대한민국

Conference

Conversion process of carbon dioxide and methane through dielectric barrier discharge plasma system

이원규 ;
원동수 ;
김태경

2009-10-04
오스트리아

Conference

Removing copper post etch residue from BEOL process using aqueous chemical solutions

이원규 ;
고천광

2009-10-04
오스트리아

Article

Lead zirconium titanate thin films prepared by thermal annealing of multilayer structures composed of PbO, ZrO2 and TiO2

Kang, Byung Sun ;
Lee, Won Gyu

2009-09-25
Journal of Industrial and Engineering Chemistry
ELSEVIER SCIENCE INC

Conference

Surface modification and sterization by an atmospheric glow discharge

이원규

2009-05-24
미국

Conference

BEOL 공정에서의 Cu 부식특성연구

이원규 ;
고천광

2009-04-22
대한민국

Conference

저압플라즈마를 이용한 폴리카보네이트의 표면처리 연구

이원규 ;
박세진 ;
고천광 ;
원동수

2009-04-22
대한민국

Conference

AP Plasma를 통한 polycarbonate의 표면처리연구

이원규 ;
김도현 ;
박시영 ;
김태경

2009-04-22
대한민국

Article

Notching characteristics of un-doped amorphous silicon in high density plasma etching

Ko, Cheon-Kwang ;
Lee, Won Gyu

2009-03
Journal of Industrial and Engineering Chemistry
ELSEVIER SCIENCE INC

Article

Cl2/HBr/O2 고밀도 플라즈마에서 비정질 실리콘 게이트 식각공정 특성

이원규

2009-02
Korean Chemical Engineering Research(HWAHAK KONGHAK)
한국화학공학회

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이원규

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반도체 후공정 세정액 특성연구

Conversion process of carbon dioxide and methane through dielectric barrier discharge plasma system

Removing copper post etch residue from BEOL process using aqueous chemical solutions

Lead zirconium titanate thin films prepared by thermal annealing of multilayer structures composed of PbO, ZrO2 and TiO2

Surface modification and sterization by an atmospheric glow discharge

BEOL 공정에서의 Cu 부식특성연구

저압플라즈마를 이용한 폴리카보네이트의 표면처리 연구

AP Plasma를 통한 polycarbonate의 표면처리연구

Notching characteristics of un-doped amorphous silicon in high density plasma etching

Cl2/HBr/O2 고밀도 플라즈마에서 비정질 실리콘 게이트 식각공정 특성