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김시준

Kim, Si Joon

춘천캠퍼스

대학

IT대학

전기전자공학과

ORCID

연구분야

  • 반도체·디스플레이 소자 및 공정

자료 필터

자료유형

발행연도

2013 ~ 2026
2013 2026

키워드

언어

전체 158건 중 21번부터 30번까지의 결과를 표시합니다.

2025
Conference

A study on the influence of chlorine concentration on electrical stability of IGZO thin-film transistors

  • 김시준 ; 
  • 송민섭 ; 
  • 이승빈 ; 
  • 민현홍 ; 
  • 장광현 ; 
  • 외 1명
  • 2025-06-19
  • 대한민국
Conference

A study on cryogenic characterization of IGZO thin-film transistors

  • 김시준 ; 
  • 이호민 ; 
  • 이승빈 ; 
  • 민현홍 ; 
  • 장광현
  • 2025-06-19
  • 대한민국
Conference

Analysis of low-temperature crystallization of ferroelectric ALD-HZO thin films with Avrami constant calculation

  • 김시준 ; 
  • 강종묵 ; 
  • 이승빈 ; 
  • 민현홍 ; 
  • 장광현 ; 
  • 외 2명
  • 2025-06-18
  • 대한민국
Conference

A study on the voltage-dependent ferroelectric characterization of ALD-HZO thin films under cryogenic conditions

  • 김시준 ; 
  • 이승빈 ; 
  • 민현홍 ; 
  • 장광현 ; 
  • Minjong Lee ; 
  • 외 1명
  • 2025-06-18
  • 대한민국
Conference

Comprehensive analysis of the effects of metal precursors and oxygen sources on ferroelectric ALD-HZO thin films

  • 김시준 ; 
  • 이승빈 ; 
  • 민현홍 ; 
  • 장광현 ; 
  • Jiyoung Kim
  • 2025-06-18
  • 대한민국
Article

Enhanced electrical stability in IGZO TFTs through passivation effects of PTFE in the back-channel layer

  • Na, Jae Won ; 
  • Moon, Kunho ; 
  • Lee, I. Sak ; 
  • Park, Kyungho ; 
  • Kim, Hwa Seon ; 
  • ... Kim, Si Joon ; 
  • 외 1명
  • 2025-05-12
  • Applied Physics Letters
  • AIP Publishing
Conference

Thermal budget analysis of ferroelectric ALD-(Hf,Zr)O2 thin films using the JMAK model

  • 김시준 ; 
  • 김재훈 ; 
  • 강종묵 ; 
  • 이승빈 ; 
  • 민현홍 ; 
  • 외 3명
  • 2025-04-09
  • 미국
Conference

Influence of W and TiN electrodes on ferroelectric ALD-(Hf,Zr)O2 capacitors at cryogenic temperatures

  • 김시준 ; 
  • 김재훈 ; 
  • 강종묵 ; 
  • 이승빈 ; 
  • Jin-Hyun Kim ; 
  • 외 3명
  • 2025-04-09
  • 미국
Article

Impact of Tetrakis(ethylmethylamino)-based precursor and oxygen source selection on atomic layer deposition of ferroelectric HfxZr1-xO2 thin films

  • Kim, Jin-Hyun ; 
  • Song, Siun ; 
  • Narayan, Dushyant M. ; 
  • Le, Dan N. ; 
  • Chu, Thi Thu Huong ; 
  • ... Kim, Si Joon ; 
  • 외 8명
  • 2025-03-30
  • Applied Surface Science
  • ELSEVIER
Article

Thermal budget study to simultaneously achieve low-temperature (<400 °C) process and high endurance of ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 thin films

  • Kang, Jongmug ; 
  • Park, Seongbin ; 
  • Park, Hye Ryeon ; 
  • Lee, Seungbin ; 
  • Kim, Jin-Hyun ; 
  • ... Kim, Si Joon ; 
  • 외 8명
  • 2025-03
  • Applied Physics Letters
  • AIP Publishing