김시준 프로필 사진

김시준

Kim, Si Joon

춘천캠퍼스

대학

IT대학

전기전자공학과

ORCID

연구분야

  • 반도체·디스플레이 소자 및 공정

자료 필터

자료유형

발행연도

2013 ~ 2026
2013 2026

키워드

언어

전체 158건 중 41번부터 50번까지의 결과를 표시합니다.

2024
Conference

High-k ALD-(Hf,Zr)O2 thin films with morphotropic phase boundary toward next-generation DRAM technology

  • 김시준 ; 
  • 민현홍 ; 
  • 박성빈 ; 
  • 강종묵 ; 
  • 이승빈
  • 2024-06-25
  • 대한민국
Conference

A study on low-temperature (<400℃) process of ferroelectric (Hf,Zr)O2 thin films using H2O2 as oxygen source

  • 김시준 ; 
  • 김재훈 ; 
  • 박성빈 ; 
  • 강종묵 ; 
  • 이승빈 ; 
  • 외 2명
  • 2024-06-25
  • 대한민국
Conference

Cryogenic characterization of ferroelectric (Hf,Zr)O2 thin films sandwiched between TiN or W electrodes

  • 김시준 ; 
  • 박성빈 ; 
  • 강종묵 ; 
  • 최예서 ; 
  • 이승빈 ; 
  • 외 3명
  • 2024-06-25
  • 대한민국
Conference

A study on crystallization behaviors of low-temperature (<400℃) ferroelectric (Hf,Zr)O2 thin films using JMAK model

  • 김시준 ; 
  • 박성빈 ; 
  • 강종묵 ; 
  • 이승빈 ; 
  • Jin-Hyun Kim ; 
  • 외 2명
  • 2024-06-24
  • 대한민국
Article

Analysis of ferroelectric properties of ALD-Hf0.5Zr0.5O2 thin films according to oxygen sources

  • Lee, Seungbin ; 
  • Jung, Yong Chan ; 
  • Park, Hye Ryeon ; 
  • Park, Seongbin ; 
  • Kang, Jongmug ; 
  • ... Kim, Si Joon ; 
  • 외 6명
  • 2024-06
  • Solid-State Electronics
  • PERGAMON-ELSEVIER SCIENCE LTD
Conference

Investigation of ferroelectric properties of ALD-(Hf,Zr)O2 thin films from cryogenic to room temperatures

  • 김시준 ; 
  • 최예서 ; 
  • 박혜련 ; 
  • 박성빈 ; 
  • 강종묵 ; 
  • 외 1명
  • 2024-01-24
  • 대한민국
Conference

A study on the equivalent oxide thickness of Hf1-XZrXO2 thin films for next-generation DRAM applications

  • 김시준 ; 
  • 이승빈 ; 
  • 민현홍 ; 
  • 최예서 ; 
  • 박혜련 ; 
  • 외 3명
  • 2024-01-24
  • 대한민국
Conference

Analysis of hydrogen effect on ferroelectric (Hf,Zr)O2 thin films during atomic layer deposition process

  • 김시준 ; 
  • 이승빈 ; 
  • 최예서 ; 
  • 박혜련 ; 
  • 박성빈 ; 
  • 외 5명
  • 2024-01-24
  • 대한민국
Conference

A study on low-temperature (<400°C) furnace annealing for BEOL compatible ferroelectric ALD-(Hf,Zr)O2 thin films

  • 김시준 ; 
  • 박혜련 ; 
  • 박성빈 ; 
  • 강종묵 ; 
  • 정준탁 ; 
  • 외 4명
  • 2024-01-24
  • 대한민국