김시준 프로필 사진

김시준

Kim, Si Joon

춘천캠퍼스

대학

IT대학

전기전자공학과

ORCID

연구분야

  • 반도체·디스플레이 소자 및 공정

자료 필터

자료유형

발행연도

2013 ~ 2026
2013 2026

키워드

언어

전체 158건 중 51번부터 60번까지의 결과를 표시합니다.

2024
Conference

Comparative study on ferroelectric properties of (Hf,Zr)O2 thin films using H2O2 and O3 as ALD oxidants

  • 김시준 ; 
  • 최예서 ; 
  • 박혜련 ; 
  • 박성빈 ; 
  • 강종묵 ; 
  • 외 4명
  • 2024-01-24
  • 대한민국
Article

BEOL Compatible Ultra-Low Operating Voltage (0.5 V) and Preconfigured Switching Polarization States in Effective 3 nm Ferroelectric HZO Capacitors

  • Lee, Minjong ; 
  • Kim, Jinhyun ; 
  • Le, Dan N. ; 
  • Lee, Seojun ; 
  • Song, Siun ; 
  • ... Kim, Si Joon ; 
  • 외 8명
  • 2024
  • Digest of Technical Papers - Symposium on VLSI Technology
  • Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
2023
Conference

A study on the ferroelectric properties of hafnia-zirconia thin films at cryogenic temperatures

  • 김시준 ; 
  • 이승빈 ; 
  • 민현홍 ; 
  • 최예서 ; 
  • 박혜련 ; 
  • 외 3명
  • 2023-10-31
  • 대한민국
Conference

In-situ reflectance absorption infra-red spectroscopy (RAIRS) study on ALD of HfO2 on TiN and Pt electrodes

  • 김시준 ; 
  • 홍예은 ; 
  • 송시언 ; 
  • 최리노 ; 
  • Jiyoung Kim ; 
  • 외 3명
  • 2023-10-08
  • 스웨덴
Article

Toward Low-Thermal-Budget Hafnia-Based Ferroelectrics via Atomic Layer Deposition

  • Kim, Jin-Hyun ; 
  • Onaya, Takashi ; 
  • Park, Hye Ryeon ; 
  • Jung, Yong Chan ; 
  • Le, Dan N. ; 
  • ... Kim, Si Joon ; 
  • 외 7명
  • 2023-09-07
  • ACS APPLIED ELECTRONIC MATERIALS
  • AMER CHEMICAL SOC
Conference

High endurance of back-end-of-line compatible ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 thin films through low temperature annealing

  • 김시준 ; 
  • 박혜련 ; 
  • 박성빈 ; 
  • 강종묵 ; 
  • Seojun Lee ; 
  • 외 2명
  • 2023-08-02
  • 미국
Conference

Enhanced ferroelectric polarization of Hf0.5Zr0.5O2 thin films through fast ramp-up annealing process

  • 김시준 ; 
  • 박혜련 ; 
  • 박성빈 ; 
  • 강종묵 ; 
  • Seojun Lee ; 
  • 외 2명
  • 2023-08-02
  • 미국
Conference

The impact of oxygen source on the formation of TiN interface at the initial stage ALD process of hafnia-based ferroelectrics: an in-situ analysis

  • 김시준 ; 
  • Jin-Hyun Kim ; 
  • Jiyoung Kim ; 
  • Yong Chan Jung ; 
  • Su Min Hwang ; 
  • 외 8명
  • 2023-07-23
  • 미국
Conference

Impact of oxygen source and cocktail precursor on ferroelectricity of ALD HfXZr1-XO2 thin films

  • 김시준 ; 
  • Jin-Hyun Kim ; 
  • Yong Chan Jung ; 
  • Jiyoung Kim ; 
  • Minjong Lee ; 
  • 외 5명
  • 2023-07-23
  • 미국