김시준 프로필 사진

김시준

Kim, Si Joon

춘천캠퍼스

대학

IT대학

전기전자공학과

ORCID

연구분야

  • 반도체·디스플레이 소자 및 공정

자료 필터

자료유형

발행연도

2013 ~ 2026
2013 2026

키워드

언어

전체 158건 중 91번부터 100번까지의 결과를 표시합니다.

2022
Conference

Investigation of ferroelectric properties of Hf0.5Zr0.5O2 thin films according to annealing conditions

  • 김시준 ; 
  • 박혜련 ; 
  • 조민관 ; 
  • 김효정 ; 
  • 유정규 ; 
  • 외 9명
  • 2022-01-24
  • 대한민국
Conference

Investigation of tungsten electrode effect on ferroelectricity of ALD-Hf0.5Zr0.5O2 thin films

  • 김시준 ; 
  • 박혜련 ; 
  • 조민관 ; 
  • 김효정 ; 
  • 유정규 ; 
  • 외 7명
  • 2022-01-24
  • 대한민국
Article

Highly Reliable Selection Behavior With Controlled Ag Doping of Nano-Polycrystalline ZnO Layer for 3D X-Point Framework

  • Sahota, Akshay ; 
  • Kim, Harrison Sejoon ; 
  • Mohan, Jaidah ; 
  • Jung, Yong Chan ; 
  • Hernandez-Arriaga, Heber ; 
  • ... Kim, Si Joon ; 
  • 외 4명
  • 2022-01
  • IEEE Electron Device Letters
  • IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC
2021
Article

Low-thermal-budget (300 °C) ferroelectric TiN/Hf0.5Zr0.5O2/TiN capacitors realized using high-pressure annealing

  • Kim, Si Joon ; 
  • Jung, Yong Chan ; 
  • Mohan, Jaidah ; 
  • Kim, Hyo Jeong ; 
  • Rho, Sung Min ; 
  • 외 12명
  • 2021-12-13
  • Applied Physics Letters
  • AIP Publishing
Conference

Nano-polycrystalline Ag doped ZnO layer for steep-slope threshold switching selectors

  • 김시준 ; 
  • Akshay Sahota ; 
  • Harrison Sejoon Kim ; 
  • Jaidah Mohan ; 
  • Dan N. Le ; 
  • 외 5명
  • 2021-11-14
  • 일본
Article

Nano-polycrystalline Ag-doped ZnO layer for steep-slope threshold switching selectors

  • Sahota, Akshay ; 
  • Kim, Harrison Sejoon ; 
  • Mohan, Jaidah ; 
  • Le, Dan N. ; 
  • Jung, Yong Chan ; 
  • ... Kim, Si Joon ; 
  • 외 4명
  • 2021-11-01
  • AIP Advances
  • AIP Publishing
Conference

Effect of bottom electrodes on ferroelectric properties of ALD-Hf0.5Zr0.5O2 films

  • 김시준 ; 
  • 박혜련 ; 
  • 김효정 ; 
  • 유정규 ; 
  • Jaidah Mohan ; 
  • 외 6명
  • 2021-09-20
  • 폴란드
Conference

Low-temperature (300°C) ferroelectric TiN/Hf0.5Zr0.5O2/TiN capacitors using high-pressure annealing

  • 김시준 ; 
  • 박혜련 ; 
  • 김효정 ; 
  • 유정규 ; 
  • Yong Chan Jung ; 
  • 외 7명
  • 2021-09-20
  • 폴란드